... 2024-08-06 16:40 .. 从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。
在传统光学系统中，例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术，光圈和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。
这种方法并不适用于EUV射线，因为它们的波长极短，大多数会被材料吸收。
因此，EUV光使用月牙形镜子引导。
但这又会导致光线偏离中心轴，从而牺牲重要的光学特性并降低系统的整体性能。
为解决这一问题，新光刻技术通过将两个具有微小中心孔的轴对称镜子排列在一条直线上来实现其光学特性。
由于EUV吸收率极高，每次镜子反射，能量就会减弱40%。
按照行业标准，只有大约1%的EUV光源能量通过10面反射镜最终到达晶圆，这意味着需要非常高的EUV光输出。
相比之下，将EUV光源到晶圆的反射镜数量限制为总共4面，就能有超过10%的能量可以穿透到晶圆，显著降低了功耗。
新EUV光刻技术的核心投影仪能将光掩模图像转移到硅片上，它由两个反射 .. UfqiNews ↓
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