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01-19 02:30...ASML是目前全球唯一能制造极紫外光刻机的企业，其EUV光刻机在全球市场中占据了100%的份额。此外，蔡司、尼康、佳能、Newport、Jenoptik、徕卡、奥林巴斯等国际企业在全球工业级精密光学市场中占据了超过70%的市场份额。这些企业虽然不专注于光刻机制造，但也在相关领域拥有强大的技术实力和市场份额。对比来看的话... 0
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01-12 17:40...实现将掩模图形转移至芯片再进行进一步加工。在光刻工艺中，光刻材料是实现图形转移的重要原材料。光刻胶的作用就是“转移图形”经过曝光、前烘、显影、刻蚀等一系列步骤把电路图案转移到半导体芯片上流程图一言以蔽之——在半导体行业光刻胶扮演着至关重要的角色决定着芯片的整体性能厦门恒坤自研光刻胶在国内光刻材料领域恒坤新材有着较高的知... 0
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01-07 19:10...是境内少数具备12英寸集成电路晶圆制造关键材料研发和量产能力的创新企业之一，主要从事光刻材料和前驱体材料等产品的研发、生产和销售。目前，恒坤新材的产品主要包括SOC、BARC、KrF光刻胶、i-Line光刻胶等光刻材料以及TEOS等前驱体材料，主要应用于先进NAND、DRAM存储芯片与90nm技术节点及以下逻辑芯片生产... 1
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01-04 11:50...在2010年初失去了继续开发EUV光刻设备的能力。在此之前，尼康和佳能曾探索过联合开发EUV光刻设备，但最终未能如愿。“他的领导力非常突出”，熟悉三家企业开发竞争的人士之一指出的是阿斯麦前总裁兼首席技术官(CTO)马丁·范登布林克(MartinvandenBrink)的能力。马丁·范登布林克从1984年阿斯麦创业之初就... 0
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12-30 11:10...需要穿过约2毫米宽的耳蜗膜。传统手术器械在递送过程中，容易导致耳蜗膜撕裂，进而造成不可逆转的听力损伤。双光子光刻技术是一种能够制造极精细结构的3D打印方法。研究团队采用这一先进制造技术，打造出一种比耳蜗膜更薄的微针。这款微针的宽度与人类头发丝的宽度相当，而且比现有医用针更锋利、更坚固。团队表示，这种微针的主要作用是在不... 0
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12-30 07:40...製造設備之中顯示出顯著動向的是用於形成細微電路的光刻機相關領域，增至3.9倍。光刻是半導體製造的核心工序。在基板上蝕刻出奈米(奈米是10億分之1米)級的微細電路。從光刻機來看，日本尼康和佳能也有涉足，但來自荷蘭的進口額增長達到6.2倍。其中大部分被認為來自荷蘭大型企業阿斯麥(ASML)。光刻機已成為貿易管制的對象。與美... 0
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12-10 23:50...面向Rapidus的2nm制程用EUV光掩膜DNP和TekscendPhotomask正在致力于开发的是使用EUV（极紫外）光刻技术的2nm制程的光掩膜。TekscendPhotomask计划在2027年前后开始量产，DNP计划在2027年度开始量产。DNP将日本Rapidus公司作为2nm制程用EUV光掩膜的客户。R... 0
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12-04 17:30...半导体为了实现节能和提高处理速度，不断推进电子电路的微细化。SMBC日兴证券的分析师花屋武认为，“对半导体企业来说，半导体设备企业将是下一步科研的重要伙伴”。半导体的制造流程分为在硅晶圆上形成电子电路的“前工序”、封装和性能测试等“后工序”。日本的半导体相关领域代表性企业东京电子是仅次于美国应用材料公司与荷兰ASML控... 1
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12-04 11:00...半导体为了实现节能和提高处理速度，不断推进电子电路的微细化。SMBC日兴证券的分析师花屋武认为，“对半导体企业来说，半导体设备企业将是下一步科研的重要伙伴”。半导体的制造流程分为在硅晶圆上形成电子电路的“前工序”、封装和性能测试等“后工序”。日本的半导体相关领域代表性企业东京电子是仅次于美国应用材料公司与荷兰ASML控... 1
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10-16 16:40...雖然過去日本企業尼康和佳能曾與阿斯麥展開開發競爭，但由於先進設備的研發費用負擔增加，尼康和佳能退出了這項業務，因此阿斯麥在EUV光刻機領域確立了壟斷地位。在半導體産業成為中美對立焦點的情況下，由於美國採取管制措施，阿斯麥無法向中國出口高性能設備。儘管如此，由於各國政府紛紛採取吸引半導體産業的政策，來自美國和日本的先進設... 1
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10-16 12:30...二是美国对中国的出口管制导致营收占比下降。傅恪礼表示，“当前形势表明，半导体市场的复苏进程比此前的预期缓慢。该复苏进程预计将持续到2025年，因此客户在决策上变得更加谨慎。在逻辑芯片领域，由于晶圆代工厂之间的竞争态势，部分客户的新技术节点发展态势放缓，导致某些晶圆厂计划推迟并影响了对光刻设备的需求时间节点，尤其是对EU... 6
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10-03 13:30...有完整的语音角色和UedaMetawo绘制的精美2D图像。这款游戏是一款飞行射击游戏，玩家可以编辑单位和射击属性，并在游戏中计算出相应的力量水平。《永不复还：密室之门》是一款砍杀类动作游戏，玩家扮演的英雄被吸引进入通往恶魔世界的门户，面临光明与黑暗、生存与死亡的抉择。游戏以探索和战斗为主题，玩家需要利用各种武器和技能来... 0
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10-03 13:30...康宁将于9月30日至10月3日在加州蒙特雷举行的SPIE光掩模技术+极紫外光刻会议上展示这种玻璃和其他半导体材料。据介绍，这种新玻璃材料可帮助芯片制造商改进芯片设计的模板“光掩模”，可承受最高强度的极紫外光（EUV）光刻，具有接近0的膨胀特性，可适用于EUV光掩模和光刻镜，对于大规模生产最先进、最具成本效益的微芯片至关... 1
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09-23 22:20...其重要性更是不言而喻。ILT并非一种新兴技术，但其存在诸如计算量大效率低，掩模复杂度高难于制造等技术难点，长期以来尚未得到广泛应用。作为探索ILT技术的先驱之一，东方晶源ILT采用GPU集群高性能计算解决方案，解决了计算量大的难题，率先实现了全芯片级别的基于ILT技术的掩模优化。面对等先进制程的迫切需求，近期东方晶源I... 4
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09-14 01:50...東京應化還在台積電（TSMC）設立基地的日本熊本和北美地區加強了生産和銷售體制。光刻膠的生産需要對光敏度及黏度等進行調整，「能夠在客戶附近迅速並細緻地響應需求」（東京應化的相關負責人）。2024年2月東京應化將2030財年（截至2030年12月）銷售額目標提高到了3500億日元，超過了原計劃（2000億日元）的1.7倍... 2
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09-07 20:00...将更便于开发制造设备和材料。新基地计划3~5年后成立，将在日本研究机构中首次引进极紫外线（EUV）光刻设备。这种设备对生产电路线宽在5纳米以下的最尖端半导体不可或缺。日本产综研作为运营主体，英特尔则提供使用EUV制造半导体的技术等。总投资额预计达到几百亿日元。企业将支付使用费，利用EUV进行试制和测试。新基地还考虑与美... 1
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08-26 23:40...上述新技術由沖繩科學技術大學院大學的新竹積教授開發。目前，EUV光刻設備由荷蘭半導體製造設備巨頭ASML控股獨家供應。現有設備的原理是使用雷射器産生EUV，並通過10個鏡子曲折反射到達晶圓，實現電路圖案的轉印，非常複雜。EUV的能量每經一次反射就會衰減40%，因此最終僅有1%左右的能量能夠到達晶圓。而新技術只用4個反光... 0
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08-12 01:00...Rapidus预计能够将芯片交付时间缩短至竞争对手的三分之一。该公司工厂的外观结构计划于今年10月完工，EUV光刻设备将于12月进场。全自动化工厂有望帮助Rapidus在竞争激烈的半导体制造领域取得优势。虽然芯片制造的前端工艺，包括EUV光刻，已经在大多数生产设施中实现了高度自动化，但后端工艺如互连、封装和测试仍高度依... 0
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08-06 16:40...从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。在传统光学系统中，例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术，光圈和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线，因为它们的波长极短，大多数会被材料吸收。因此，EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴，从而牺牲重要的光学特性并降低系统... 1
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10-20 17:00...并斩获20%涨停收于33.12元/股，当天成交额达到15.55亿元。9月15日一早，深交所便向苏大维格下发关注函，要求公司补充披露所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途等问题，并进一步提示相关风险。当天晚间，苏大维格披露了线上半年报业绩说明会纪要，其中对光刻设备问题有所回应。公告称，公司高端智能装备包括直写光刻、... 1
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10-14 08:40...源于苏大维格的一则互动易平台回复。今年9月，光刻机概念股遭到了市场热炒，相关个股股价出现飙升，9月14日，苏大维格在投资者关系互动平台回复投资者提问时表示“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口”，并提及“公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜... 3
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10-13 18:40...苏大维格在投资者互动平台回复投资者提问时表示，公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口，并称公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局。受此消息影响，苏大维格当天午后开盘直线拉升，冲出20CM涨停。但不少投资者质疑苏大维格在互动易平台... 2
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2025-01-21-07:08 GMT . 添加到桌面浏览更方便.
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