↖  佳能半導體奈米壓印技術的真正實力..


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... 2024-04-21 15:20 .. 使抗蝕劑固化。
    待固化完成後,再將掩膜剝離(圖2)。
    圖2:轉印方式的比較(數據來源:《日經xTECH》根據佳能的資料繪製)奈米壓印可以依照上述方法直接轉印圖案,因此即便是複雜圖案的轉印,也可在一次曝光中完成。
    如果依靠光刻的方式,只能在一次曝光中轉印縱向或橫向的形狀(注1)。
    因此,如果有斜向圖案或者多種圖案交織在一起,就需要進行多次曝光。
    隨著曝光次數的增加,其他工藝步驟(如蝕刻等)也會相應增加。
    (注1)使用根據橫、縱方向優化曝光條件的曝光方式。
    如果縱向和橫向圖案混合在一起,邊緣的曝光解析度會降低,邊緣的圖案會呈現鋸齒狀,因此需要分開曝光。
    在複製掩膜上形成圖案奈米壓印使用的是刻有實際尺寸圖案的掩膜。
    據佳能介紹,他們使用電子束繪製實際尺寸的母掩膜,然後使用奈米壓印裝置製作出複製掩膜(圖3)。
    由於奈米壓印裝置會使掩膜間出現直接的按壓接觸,與光刻方式相比更容易導致掩膜出 .. UfqiNews 1

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