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09-23 22:20...其重要性更是不言而喻。ILT并非一种新兴技术,但其存在诸如计算量大效率低,掩模复杂度高难于制造等技术难点,长期以来尚未得到广泛应用。作为探索ILT技术的先驱之一,东方晶源ILT采用GPU集群高性能计算解决方案,解决了计算量大的难题,率先实现了全芯片级别的基于ILT技术的掩模优化。面对等先进制程的迫切需求,近期东方晶源I... 1
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09-14 01:50...東京應化還在台積電(TSMC)設立基地的日本熊本和北美地區加強了生産和銷售體制。光刻膠的生産需要對光敏度及黏度等進行調整,「能夠在客戶附近迅速並細緻地響應需求」(東京應化的相關負責人)。2024年2月東京應化將2030財年(截至2030年12月)銷售額目標提高到了3500億日元,超過了原計劃(2000億日元)的1.7倍... 0
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09-07 20:00...将更便于开发制造设备和材料。新基地计划3~5年后成立,将在日本研究机构中首次引进极紫外线(EUV)光刻设备。这种设备对生产电路线宽在5纳米以下的最尖端半导体不可或缺。日本产综研作为运营主体,英特尔则提供使用EUV制造半导体的技术等。总投资额预计达到几百亿日元。企业将支付使用费,利用EUV进行试制和测试。新基地还考虑与美... 0
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08-26 23:40...上述新技術由沖繩科學技術大學院大學的新竹積教授開發。目前,EUV光刻設備由荷蘭半導體製造設備巨頭ASML控股獨家供應。現有設備的原理是使用雷射器産生EUV,並通過10個鏡子曲折反射到達晶圓,實現電路圖案的轉印,非常複雜。EUV的能量每經一次反射就會衰減40%,因此最終僅有1%左右的能量能夠到達晶圓。而新技術只用4個反光... 0
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08-12 01:00...Rapidus预计能够将芯片交付时间缩短至竞争对手的三分之一。该公司工厂的外观结构计划于今年10月完工,EUV光刻设备将于12月进场。全自动化工厂有望帮助Rapidus在竞争激烈的半导体制造领域取得优势。虽然芯片制造的前端工艺,包括EUV光刻,已经在大多数生产设施中实现了高度自动化,但后端工艺如互连、封装和测试仍高度依... 0
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08-06 16:40...从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。在传统光学系统中,例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术,光圈和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线,因为它们的波长极短,大多数会被材料吸收。因此,EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴,从而牺牲重要的光学特性并降低系统... 0
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07-24 06:10...是光刻工艺中不可或缺的部件。晶合集成一直专注于高精度光刻掩模版研发和生产,目前可提供28-150纳米的光刻掩模版服务,将于今年四季度正式量产,服务范围包括光刻掩模版设计、制造、测试及认证等,计划为晶合客户提供4万片/年的产能支持。此次光刻掩模版成功亮相,标志着晶合集成在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后,可提供资料、... 0
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07-17 19:40...毛利率也保持在51.5%的较高水平,超出管理层给出的51%指引上限,亦高出分析师预期的50.6%。今年第二季度的新增订单金额为55.67亿欧元,其中25亿欧元为EUV光刻机订单。其中,中国区净系统销售额全球占比与第一季度持平,为49%。截至2024年第二季度末,ASML的未交付订单总额达到390亿欧元。ASML总裁兼C... 0
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07-17 19:30...”2024年营收预计同比持平整体而言,ASML在2024年第二季度中,保持了较为稳健的财务表现,并对未来市场需求保持乐观。傅恪礼谈道,第二季度的净销售额处于预测营收区间的高位,毛利率高于预期目标,两者均主要得益于浸润式系统的销售额增加。对于EUV光刻机(极紫外光刻)产品,ASML指出,在0.33数值孔径EUV光刻系统方... 0
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07-17 18:50...超过了管理层给出的62亿欧元指引上限,亦高出分析师预期的60亿欧元;净利润为15.78亿欧元,环比增长28.92%,较上一季度的12.24亿欧元有显著提升;毛利率也保持在51.5%的较高水平,超出管理层给出的51%指引上限,亦高出分析师预期的50.6%。今年第二季度的新增订单金额为55.67亿欧元,其中25亿欧元为EU... 0
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07-13 15:30...利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连,集成度达到特大规模集成度水平。该成果日前以《基于光伏纳米单元的高性能大规模集成有机光电晶体管》为题发表于《自然·纳米技术》。随着现代信息科技的发展,功能芯片的集成密度越来越高,硅基芯片集成器件的密度已经超过每平方毫米2亿个晶体管。目前,集成电路芯片... 0
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07-05 19:50...将栅极长度减少到几纳米以下是不可能的。二维半导体二硫化钼的镜面孪晶边界(MTB)是宽度仅为0.4纳米的一维金属,因此,研究人员将其用作栅极电极,可克服光刻工艺的限制。这一成果显著优于国际电气电子工程师学会(IEEE)的预测,IEEE此前发布的国际集成电路设备和系统路线图(IRDS)预测,到2037年,芯片制程工艺将达到... 0
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06-23 20:50...美國國會激進反華政客代表之一、參議員湯姆科頓,在2021年就曾經提交過一份名為“擊敗中國”的所謂文件,大肆鼓吹美國應該與中國“硬脫鉤”,並且認為這是一場與中國的長期“戰爭”。令人遺憾的是,“擊敗中國”並不是美國幾個極端政客的個人觀點。從當前美國國內的政治氛圍來看,現實情況是,把中國視為“美國最大對手”,已成為美國國會和... 1
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06-07 21:20...只有加工尺寸最小或者接近最小的層才使用加工成本較高的EUV和ArF浸沒式光刻機。佳能光學設備事業本部副本部長岩本和德(半導體設備事業部長)稱:「以需要曝光50層的最尖端半導體為例,可能只有2~3層使用EUV,最多有10層左右使用ArF」。加工尺寸比較大的層通常使用ArF乾式光刻機、KrF光刻機(波長為248nm)、i線... 0
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05-12 08:40...其中,Intel3作为升级版,应用于服务器端的SierraForest、GraniteRapids,将在今年陆续发布,其中前者首次采用纯E核设计,最多288个。Intel20A和Intel18A两个节点正在顺利推进中,分别相当于2nm、1.8nm,将继续采用EUV技术,并应用RibbonFET全环绕栅极晶体管和Powe... 1
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05-08 16:50...由于ASML的高数值孔径EUV设备产能每年约为5到6台,这意味着英特尔将获得所有初始库存,而英特尔的竞争对手三星和SK海力士预计将在明年下半年才能获得该设备。▲图源:ASML对于高数值孔径,IT之家这里简单解释一下。光刻设备中的NA代表数值孔径,表示光学系统收集和聚光的能力。数值越高,聚光的能力就越强。相比于当前EUV... 2
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04-30 20:50...另一个是作为信号放大器,可用于通信。可以说,正是因为有了晶体管,才有了我们信息时代的计算机、互联网和无线通信等。更进一步说,如果晶体管代表字,晶体管尺寸就对应字号,标准单元库就相当于字体库,版图校验对应校对,线间距有点像行距,版图布局相当于页面布局,掩膜制版对应激光制版,光刻就像印刷,封装就像装订,外壳相当于封面,芯片... 1
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07-04 20:50...公司向中国出口制造高端芯片必不可少的先进光刻机。英国《金融时报》就直指,中国公司预计将是少数被拒绝许可的公司之一。阿斯麦公司回应称,根据新出口管制条例规定,最先进的深紫外线光刻设备(DUV)(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)出口需要获得许可。换言之,阿斯麦四个浸没式光刻系统中的三个将受到... 4
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07-01 12:20...作为小松的主力基地,小山工厂生产堪称工程机械心脏的柴油发动机和液压设备等,并向全世界供应。性质完全不同的Gigaphoton的总部就位于小山工厂的一角。该公司投资约50亿日元,正在建设新厂房。针对使用以往主流的“深紫外线(DUV)”的光刻设备,Gigaphoton提供核心设备光源等。如果新厂房在年内竣工,包括最近增强部... 1
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05-25 04:10...8亿美元下滑3%;按业务划分1)数据中心——营收达到创纪录的42.8亿美元,同比增长14%,环比增长18%——推出了四个推理平台,将公司的全栈推理软件与最新的Ada、NVIDIAHopper和NVIDIAGraceHopper处理器相结合——宣布谷歌云是第一个提供新的NVIDIAL4TensorCoreGPU来加速生成... 17
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04-11 02:30...英伟达推出了专为ChatGPT设计的推理GPU(图形处理器)。除此之外,还发布了AI超级计算服务DGXCloud、突破性的光刻计算库cuLitho、加速企业创建大模型和生成式AI的云服务NVIDIAAIFoundations等,以及与QuantumMachines合作推出了全球首个GPU加速量子计算系统。其中最主要的是... 6
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03-24 20:20...就要先颠覆别人。昨夜,英伟达推出了专为ChatGPT设计的推理GPU(图形处理器)。除此之外,还发布了AI超级计算服务DGXCloud、突破性的光刻计算库cuLitho、加速企业创建大模型和生成式AI的云服务NVIDIAAIFoundations等,以及与QuantumMachines合作推出了全球首个GPU加速量子计... 5
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2024-09-28-10:50 GMT . 添加到桌面浏览更方便.
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