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10-16 16:40...雖然過去日本企業尼康和佳能曾與阿斯麥展開開發競爭,但由於先進設備的研發費用負擔增加,尼康和佳能退出了這項業務,因此阿斯麥在EUV光刻機領域確立了壟斷地位。在半導體産業成為中美對立焦點的情況下,由於美國採取管制措施,阿斯麥無法向中國出口高性能設備。儘管如此,由於各國政府紛紛採取吸引半導體産業的政策,來自美國和日本的先進設... 0
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10-16 12:30...二是美国对中国的出口管制导致营收占比下降。傅恪礼表示,“当前形势表明,半导体市场的复苏进程比此前的预期缓慢。该复苏进程预计将持续到2025年,因此客户在决策上变得更加谨慎。在逻辑芯片领域,由于晶圆代工厂之间的竞争态势,部分客户的新技术节点发展态势放缓,导致某些晶圆厂计划推迟并影响了对光刻设备的需求时间节点,尤其是对EU... 3
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10-03 13:30...有完整的语音角色和UedaMetawo绘制的精美2D图像。这款游戏是一款飞行射击游戏,玩家可以编辑单位和射击属性,并在游戏中计算出相应的力量水平。《永不复还:密室之门》是一款砍杀类动作游戏,玩家扮演的英雄被吸引进入通往恶魔世界的门户,面临光明与黑暗、生存与死亡的抉择。游戏以探索和战斗为主题,玩家需要利用各种武器和技能来... 0
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10-03 13:30...康宁将于9月30日至10月3日在加州蒙特雷举行的SPIE光掩模技术+极紫外光刻会议上展示这种玻璃和其他半导体材料。据介绍,这种新玻璃材料可帮助芯片制造商改进芯片设计的模板“光掩模”,可承受最高强度的极紫外光(EUV)光刻,具有接近0的膨胀特性,可适用于EUV光掩模和光刻镜,对于大规模生产最先进、最具成本效益的微芯片至关... 0
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09-23 22:20...其重要性更是不言而喻。ILT并非一种新兴技术,但其存在诸如计算量大效率低,掩模复杂度高难于制造等技术难点,长期以来尚未得到广泛应用。作为探索ILT技术的先驱之一,东方晶源ILT采用GPU集群高性能计算解决方案,解决了计算量大的难题,率先实现了全芯片级别的基于ILT技术的掩模优化。面对等先进制程的迫切需求,近期东方晶源I... 3
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09-14 01:50...東京應化還在台積電(TSMC)設立基地的日本熊本和北美地區加強了生産和銷售體制。光刻膠的生産需要對光敏度及黏度等進行調整,「能夠在客戶附近迅速並細緻地響應需求」(東京應化的相關負責人)。2024年2月東京應化將2030財年(截至2030年12月)銷售額目標提高到了3500億日元,超過了原計劃(2000億日元)的1.7倍... 0
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09-07 20:00...将更便于开发制造设备和材料。新基地计划3~5年后成立,将在日本研究机构中首次引进极紫外线(EUV)光刻设备。这种设备对生产电路线宽在5纳米以下的最尖端半导体不可或缺。日本产综研作为运营主体,英特尔则提供使用EUV制造半导体的技术等。总投资额预计达到几百亿日元。企业将支付使用费,利用EUV进行试制和测试。新基地还考虑与美... 1
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08-26 23:40...上述新技術由沖繩科學技術大學院大學的新竹積教授開發。目前,EUV光刻設備由荷蘭半導體製造設備巨頭ASML控股獨家供應。現有設備的原理是使用雷射器産生EUV,並通過10個鏡子曲折反射到達晶圓,實現電路圖案的轉印,非常複雜。EUV的能量每經一次反射就會衰減40%,因此最終僅有1%左右的能量能夠到達晶圓。而新技術只用4個反光... 0
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08-12 01:00...Rapidus预计能够将芯片交付时间缩短至竞争对手的三分之一。该公司工厂的外观结构计划于今年10月完工,EUV光刻设备将于12月进场。全自动化工厂有望帮助Rapidus在竞争激烈的半导体制造领域取得优势。虽然芯片制造的前端工艺,包括EUV光刻,已经在大多数生产设施中实现了高度自动化,但后端工艺如互连、封装和测试仍高度依... 0
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08-06 16:40...从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。在传统光学系统中,例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术,光圈和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线,因为它们的波长极短,大多数会被材料吸收。因此,EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴,从而牺牲重要的光学特性并降低系统... 1
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07-24 06:10...是光刻工艺中不可或缺的部件。晶合集成一直专注于高精度光刻掩模版研发和生产,目前可提供28-150纳米的光刻掩模版服务,将于今年四季度正式量产,服务范围包括光刻掩模版设计、制造、测试及认证等,计划为晶合客户提供4万片/年的产能支持。此次光刻掩模版成功亮相,标志着晶合集成在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后,可提供资料、... 0
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07-17 19:40...毛利率也保持在51.5%的较高水平,超出管理层给出的51%指引上限,亦高出分析师预期的50.6%。今年第二季度的新增订单金额为55.67亿欧元,其中25亿欧元为EUV光刻机订单。其中,中国区净系统销售额全球占比与第一季度持平,为49%。截至2024年第二季度末,ASML的未交付订单总额达到390亿欧元。ASML总裁兼C... 1
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07-17 19:30...”2024年营收预计同比持平整体而言,ASML在2024年第二季度中,保持了较为稳健的财务表现,并对未来市场需求保持乐观。傅恪礼谈道,第二季度的净销售额处于预测营收区间的高位,毛利率高于预期目标,两者均主要得益于浸润式系统的销售额增加。对于EUV光刻机(极紫外光刻)产品,ASML指出,在0.33数值孔径EUV光刻系统方... 1
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07-17 18:50...超过了管理层给出的62亿欧元指引上限,亦高出分析师预期的60亿欧元;净利润为15.78亿欧元,环比增长28.92%,较上一季度的12.24亿欧元有显著提升;毛利率也保持在51.5%的较高水平,超出管理层给出的51%指引上限,亦高出分析师预期的50.6%。今年第二季度的新增订单金额为55.67亿欧元,其中25亿欧元为EU... 0
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07-13 15:30...利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连,集成度达到特大规模集成度水平。该成果日前以《基于光伏纳米单元的高性能大规模集成有机光电晶体管》为题发表于《自然·纳米技术》。随着现代信息科技的发展,功能芯片的集成密度越来越高,硅基芯片集成器件的密度已经超过每平方毫米2亿个晶体管。目前,集成电路芯片... 0
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07-05 19:50...将栅极长度减少到几纳米以下是不可能的。二维半导体二硫化钼的镜面孪晶边界(MTB)是宽度仅为0.4纳米的一维金属,因此,研究人员将其用作栅极电极,可克服光刻工艺的限制。这一成果显著优于国际电气电子工程师学会(IEEE)的预测,IEEE此前发布的国际集成电路设备和系统路线图(IRDS)预测,到2037年,芯片制程工艺将达到... 0
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06-23 20:50...美國國會激進反華政客代表之一、參議員湯姆科頓,在2021年就曾經提交過一份名為“擊敗中國”的所謂文件,大肆鼓吹美國應該與中國“硬脫鉤”,並且認為這是一場與中國的長期“戰爭”。令人遺憾的是,“擊敗中國”並不是美國幾個極端政客的個人觀點。從當前美國國內的政治氛圍來看,現實情況是,把中國視為“美國最大對手”,已成為美國國會和... 3
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06-07 21:20...只有加工尺寸最小或者接近最小的層才使用加工成本較高的EUV和ArF浸沒式光刻機。佳能光學設備事業本部副本部長岩本和德(半導體設備事業部長)稱:「以需要曝光50層的最尖端半導體為例,可能只有2~3層使用EUV,最多有10層左右使用ArF」。加工尺寸比較大的層通常使用ArF乾式光刻機、KrF光刻機(波長為248nm)、i線... 1
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05-12 08:40...其中,Intel3作为升级版,应用于服务器端的SierraForest、GraniteRapids,将在今年陆续发布,其中前者首次采用纯E核设计,最多288个。Intel20A和Intel18A两个节点正在顺利推进中,分别相当于2nm、1.8nm,将继续采用EUV技术,并应用RibbonFET全环绕栅极晶体管和Powe... 1
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07-04 20:50...公司向中国出口制造高端芯片必不可少的先进光刻机。英国《金融时报》就直指,中国公司预计将是少数被拒绝许可的公司之一。阿斯麦公司回应称,根据新出口管制条例规定,最先进的深紫外线光刻设备(DUV)(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)出口需要获得许可。换言之,阿斯麦四个浸没式光刻系统中的三个将受到... 4
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05-25 04:10...8亿美元下滑3%;按业务划分1)数据中心——营收达到创纪录的42.8亿美元,同比增长14%,环比增长18%——推出了四个推理平台,将公司的全栈推理软件与最新的Ada、NVIDIAHopper和NVIDIAGraceHopper处理器相结合——宣布谷歌云是第一个提供新的NVIDIAL4TensorCoreGPU来加速生成... 17
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04-11 02:30...英伟达推出了专为ChatGPT设计的推理GPU(图形处理器)。除此之外,还发布了AI超级计算服务DGXCloud、突破性的光刻计算库cuLitho、加速企业创建大模型和生成式AI的云服务NVIDIAAIFoundations等,以及与QuantumMachines合作推出了全球首个GPU加速量子计算系统。其中最主要的是... 7
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2024-11-10-00:43 GMT . 添加到桌面浏览更方便.
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