-
10-16 16:40...雖然過去日本企業尼康和佳能曾與阿斯麥展開開發競爭，但由於先進設備的研發費用負擔增加，尼康和佳能退出了這項業務，因此阿斯麥在EUV光刻機領域確立了壟斷地位。在半導體産業成為中美對立焦點的情況下，由於美國採取管制措施，阿斯麥無法向中國出口高性能設備。儘管如此，由於各國政府紛紛採取吸引半導體産業的政策，來自美國和日本的先進設... 0
-
10-16 12:30...二是美国对中国的出口管制导致营收占比下降。傅恪礼表示，“当前形势表明，半导体市场的复苏进程比此前的预期缓慢。该复苏进程预计将持续到2025年，因此客户在决策上变得更加谨慎。在逻辑芯片领域，由于晶圆代工厂之间的竞争态势，部分客户的新技术节点发展态势放缓，导致某些晶圆厂计划推迟并影响了对光刻设备的需求时间节点，尤其是对EU... 3
-
10-03 13:30...有完整的语音角色和UedaMetawo绘制的精美2D图像。这款游戏是一款飞行射击游戏，玩家可以编辑单位和射击属性，并在游戏中计算出相应的力量水平。《永不复还：密室之门》是一款砍杀类动作游戏，玩家扮演的英雄被吸引进入通往恶魔世界的门户，面临光明与黑暗、生存与死亡的抉择。游戏以探索和战斗为主题，玩家需要利用各种武器和技能来... 0
-
10-03 13:30...康宁将于9月30日至10月3日在加州蒙特雷举行的SPIE光掩模技术+极紫外光刻会议上展示这种玻璃和其他半导体材料。据介绍，这种新玻璃材料可帮助芯片制造商改进芯片设计的模板“光掩模”，可承受最高强度的极紫外光（EUV）光刻，具有接近0的膨胀特性，可适用于EUV光掩模和光刻镜，对于大规模生产最先进、最具成本效益的微芯片至关... 0
-
09-23 22:20...其重要性更是不言而喻。ILT并非一种新兴技术，但其存在诸如计算量大效率低，掩模复杂度高难于制造等技术难点，长期以来尚未得到广泛应用。作为探索ILT技术的先驱之一，东方晶源ILT采用GPU集群高性能计算解决方案，解决了计算量大的难题，率先实现了全芯片级别的基于ILT技术的掩模优化。面对等先进制程的迫切需求，近期东方晶源I... 3
-
09-14 01:50...東京應化還在台積電（TSMC）設立基地的日本熊本和北美地區加強了生産和銷售體制。光刻膠的生産需要對光敏度及黏度等進行調整，「能夠在客戶附近迅速並細緻地響應需求」（東京應化的相關負責人）。2024年2月東京應化將2030財年（截至2030年12月）銷售額目標提高到了3500億日元，超過了原計劃（2000億日元）的1.7倍... 0
-
-
09-07 20:00...将更便于开发制造设备和材料。新基地计划3~5年后成立，将在日本研究机构中首次引进极紫外线（EUV）光刻设备。这种设备对生产电路线宽在5纳米以下的最尖端半导体不可或缺。日本产综研作为运营主体，英特尔则提供使用EUV制造半导体的技术等。总投资额预计达到几百亿日元。企业将支付使用费，利用EUV进行试制和测试。新基地还考虑与美... 1
-
08-26 23:40...上述新技術由沖繩科學技術大學院大學的新竹積教授開發。目前，EUV光刻設備由荷蘭半導體製造設備巨頭ASML控股獨家供應。現有設備的原理是使用雷射器産生EUV，並通過10個鏡子曲折反射到達晶圓，實現電路圖案的轉印，非常複雜。EUV的能量每經一次反射就會衰減40%，因此最終僅有1%左右的能量能夠到達晶圓。而新技術只用4個反光... 0
-
08-12 01:00...Rapidus预计能够将芯片交付时间缩短至竞争对手的三分之一。该公司工厂的外观结构计划于今年10月完工，EUV光刻设备将于12月进场。全自动化工厂有望帮助Rapidus在竞争激烈的半导体制造领域取得优势。虽然芯片制造的前端工艺，包括EUV光刻，已经在大多数生产设施中实现了高度自动化，但后端工艺如互连、封装和测试仍高度依... 0
-
08-06 16:40...从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。在传统光学系统中，例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术，光圈和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线，因为它们的波长极短，大多数会被材料吸收。因此，EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴，从而牺牲重要的光学特性并降低系统... 1
-
07-24 06:10...是光刻工艺中不可或缺的部件。晶合集成一直专注于高精度光刻掩模版研发和生产，目前可提供28-150纳米的光刻掩模版服务，将于今年四季度正式量产，服务范围包括光刻掩模版设计、制造、测试及认证等，计划为晶合客户提供4万片/年的产能支持。此次光刻掩模版成功亮相，标志着晶合集成在晶圆代工领域成为台积电、中芯国际之后，可提供资料、... 0
-
07-17 19:40...毛利率也保持在51.5%的较高水平，超出管理层给出的51%指引上限，亦高出分析师预期的50.6%。今年第二季度的新增订单金额为55.67亿欧元，其中25亿欧元为EUV光刻机订单。其中，中国区净系统销售额全球占比与第一季度持平，为49%。截至2024年第二季度末，ASML的未交付订单总额达到390亿欧元。ASML总裁兼C... 1
-
-
07-17 19:30...”2024年营收预计同比持平整体而言，ASML在2024年第二季度中，保持了较为稳健的财务表现，并对未来市场需求保持乐观。傅恪礼谈道，第二季度的净销售额处于预测营收区间的高位，毛利率高于预期目标，两者均主要得益于浸润式系统的销售额增加。对于EUV光刻机（极紫外光刻）产品，ASML指出，在0.33数值孔径EUV光刻系统方... 1
-
07-17 18:50...超过了管理层给出的62亿欧元指引上限，亦高出分析师预期的60亿欧元；净利润为15.78亿欧元，环比增长28.92%，较上一季度的12.24亿欧元有显著提升；毛利率也保持在51.5%的较高水平，超出管理层给出的51%指引上限，亦高出分析师预期的50.6%。今年第二季度的新增订单金额为55.67亿欧元，其中25亿欧元为EU... 0
-
07-13 15:30...利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连，集成度达到特大规模集成度水平。该成果日前以《基于光伏纳米单元的高性能大规模集成有机光电晶体管》为题发表于《自然·纳米技术》。随着现代信息科技的发展，功能芯片的集成密度越来越高，硅基芯片集成器件的密度已经超过每平方毫米2亿个晶体管。目前，集成电路芯片... 0
-
07-05 19:50...将栅极长度减少到几纳米以下是不可能的。二维半导体二硫化钼的镜面孪晶边界（MTB）是宽度仅为0.4纳米的一维金属，因此，研究人员将其用作栅极电极，可克服光刻工艺的限制。这一成果显著优于国际电气电子工程师学会(IEEE)的预测，IEEE此前发布的国际集成电路设备和系统路线图(IRDS)预测，到2037年，芯片制程工艺将达到... 0
-
06-23 20:50...美國國會激進反華政客代表之一、參議員湯姆科頓，在2021年就曾經提交過一份名為“擊敗中國”的所謂文件，大肆鼓吹美國應該與中國“硬脫鉤”，並且認為這是一場與中國的長期“戰爭”。令人遺憾的是，“擊敗中國”並不是美國幾個極端政客的個人觀點。從當前美國國內的政治氛圍來看，現實情況是，把中國視為“美國最大對手”，已成為美國國會和... 3
-
06-07 21:20...只有加工尺寸最小或者接近最小的層才使用加工成本較高的EUV和ArF浸沒式光刻機。佳能光學設備事業本部副本部長岩本和德（半導體設備事業部長）稱：「以需要曝光50層的最尖端半導體為例，可能只有2～3層使用EUV，最多有10層左右使用ArF」。加工尺寸比較大的層通常使用ArF乾式光刻機、KrF光刻機（波長為248nm）、i線... 3
-
-
05-12 08:40...其中，Intel3作为升级版，应用于服务器端的SierraForest、GraniteRapids，将在今年陆续发布，其中前者首次采用纯E核设计，最多288个。Intel20A和Intel18A两个节点正在顺利推进中，分别相当于2nm、1.8nm，将继续采用EUV技术，并应用RibbonFET全环绕栅极晶体管和Powe... 1
-
07-04 20:50...公司向中国出口制造高端芯片必不可少的先进光刻机。英国《金融时报》就直指，中国公司预计将是少数被拒绝许可的公司之一。阿斯麦公司回应称，根据新出口管制条例规定，最先进的深紫外线光刻设备（DUV）（即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统）出口需要获得许可。换言之，阿斯麦四个浸没式光刻系统中的三个将受到... 4
-
05-25 04:10...8亿美元下滑3%；按业务划分1）数据中心——营收达到创纪录的42.8亿美元，同比增长14%，环比增长18%——推出了四个推理平台，将公司的全栈推理软件与最新的Ada、NVIDIAHopper和NVIDIAGraceHopper处理器相结合——宣布谷歌云是第一个提供新的NVIDIAL4TensorCoreGPU来加速生成... 17
-
04-11 02:30...英伟达推出了专为ChatGPT设计的推理GPU（图形处理器）。除此之外，还发布了AI超级计算服务DGXCloud、突破性的光刻计算库cuLitho、加速企业创建大模型和生成式AI的云服务NVIDIAAIFoundations等，以及与QuantumMachines合作推出了全球首个GPU加速量子计算系统。其中最主要的是... 9
-
-
-
本页Url:
-
2024-11-28-18:39 GMT . 添加到桌面浏览更方便.
-
