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01-12 17:40...实现将掩模图形转移至芯片再进行进一步加工。在光刻工艺中，光刻材料是实现图形转移的重要原材料。光刻胶的作用就是“转移图形”经过曝光、前烘、显影、刻蚀等一系列步骤把电路图案转移到半导体芯片上流程图一言以蔽之——在半导体行业光刻胶扮演着至关重要的角色决定着芯片的整体性能厦门恒坤自研光刻胶在国内光刻材料领域恒坤新材有着较高的知... 0
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01-07 19:10...是境内少数具备12英寸集成电路晶圆制造关键材料研发和量产能力的创新企业之一，主要从事光刻材料和前驱体材料等产品的研发、生产和销售。目前，恒坤新材的产品主要包括SOC、BARC、KrF光刻胶、i-Line光刻胶等光刻材料以及TEOS等前驱体材料，主要应用于先进NAND、DRAM存储芯片与90nm技术节点及以下逻辑芯片生产... 0
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2025-01-17-20:36 GMT . 添加到桌面浏览更方便.
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