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12-25 18:20...技术实力出色的先发企业处于垄断状态,但提高了材料耐久性等的后发企业也在力争获得市场份额。LINTEC开发出了保护半导体电路底版(光掩模)的“Pellicle(防护膜)”使用的新材料。Pellicle起到的作用是在半导体晶圆上绘制电路时,防止底版留下伤痕和附着灰尘。是提高该工序的生产效率不可缺少的构件。极紫外光(EUV)... 0
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2024-03-28-13:47 GMT . 添加到桌面浏览更方便.
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